본문 바로가기

장비 사업부

home > 장비사업부 > SCRUBBER > PLASMA TYPE > ATOM1000L
ATOM1000L
디스플레이 CVD 공정 대응 Plasma-Wet Scrubber
  • ModelATOM1000L
  • Gas 처리 방식PLASMA WET
  • 처리 용량600LPM
  • Dimension(Cabinet)1300(W)X1200(D)X1800(H)
ATOM1000L
반도체, LCD, OLED, solar Cell 등 생산 공정 중에 발생하는 Toxic Gas를 정화하여 배출하는 장비

제품 특징

  • 고온 열평형 Plasma
  • 대용량 LCD CVD공정에 특화
  • Scraper System : Powder Clogging 방지
  • 2차 열원(LNG, LPG 등)을 사용하지 않고 고온의 Plasma ARC를 이용한 PFCs GAS 처리 장치

처리가능 GAS

  • PFC GAS : NF3, SF6, ETC
  • 가연성 GAS : SiH4, DCS, TEOS, H2, PH3, ETC
  • 수용성 GAS : Cl2, HF, HCl, NH3, ETC