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장비 사업부

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UN2000A-BW
반도체 대응 Heat-Wet Scrubber
  • ModelUN2000A-BW
  • Gas 처리 방식HEAT WET
  • 처리 용량300LPM
  • Dimension(Cabinet)850(W)X900(D)X1750(H)
UN2000A-BW
반도체, LCD, OLED, solar Cell 등 생산 공정 중에 발생하는 Toxic Gas를 정화하여 배출하는 장비

제품 특징

  • Dry system : 수분 배출 최소화 적용
  • 고온의 Heater를 사용하여 가연성 및 수용성 GAS 처리
  • Burn 또는 Plasma Type 대비 낮은 운전 비용

처리가능 GAS

  • PFC GAS : NF3
  • 가연성 GAS : SiH4, DCS, TEOS, H2, PH3, ETC
  • 수용성 GAS : Cl2, HF, HCl, NH3, ETC