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UN2000A-BW

반도체 대응 Heat-Wet Scrubber

Gas 처리방식
HEAT WET
처리용량
300LPM
Dimension(Cabinet)
850(W)X900(D)X1750(H)
제품특징
Dry system : 수분 배출 최소화 적용
고온의 Heater를 사용하여 가연성 및 수용성 GAS 처리
Burn 또는 Plasma Type 대비 낮은 운전 비용
처리가능 GAS
PFC GAS : NF3
가연성 GAS : SiH4, DCS, TEOS, H2, PH3, ETC
수용성 GAS : Cl2, HF, HCl, NH3, ETC
제품문의

MAGMA1000

반도체, 디스플레이 대응 Heat-Wet Scrubber

Gas 처리방식
HEAT WET
처리용량
600LPM
Dimension(Cabinet)
800(W)X1150(D)X1600(H)
제품특징
디스플레이 CVD 공정에 적합한 대용량 처리장치
고온의 Heater를 사용하여 가연성 및 수용성 GAS 처리
Burn 또는 Plasma Type 대비 낮은 운전 비용
처리가능 GAS
PFC GAS : NF3
가연성 GAS : PH3, ETC
수용성 GAS : Cl2, HF, HCl, NH3, ETC
제품문의

MAGMA3000

LED, LCD 대응 대용량 Heat-Wet Scrubber

Gas 처리방식
HEAT WET
처리용량
1500LPM
Dimension(Cabinet)
1280(W)X1300(D)X1850(H)
제품특징
디스플레이 CVD 공정에 적합한 대용량 처리장치
고온의 Heater를 사용하여 가연성 및 수용성 GAS 처리
Burn 또는 Plasma Type 대비 낮은 운전 비용
처리가능 GAS
PFC GAS : NF3
가연성 GAS : SiH4, DCS, TEOS, H2, PH3, ETC
수용성 GAS : Cl2, HF, HCl, NH3, ETC
제품문의