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UN2000A-BW

半导体对应Heat-Wet Scrubber

GAS处理方式
HEAT WET
处理容量
300LPM
Dimension(Cabinet)
850(W)X900(D)X1750(H)
产品特点
Dry system:尽量减少水分的排放水分
使用高温的Heater可燃性及水溶性GAS处理
与Burn或Plasma Type相比较低的驾驶费用
可处理GAS
PFC GAS : NF3
可燃性 GAS : SiH4, DCS, TEOS, H2, PH3, ETC
水溶性 GAS : Cl2, HF, HCl, NH3, ETC
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MAGMA1000

半导体,显示器应对 Heat-Wet Scrubber

GAS处理方式
HEAT WET
处理容量
600LPM
Dimension(Cabinet)
800(W)X1150(D)X1600(H)
产品特点
适合显示器CDVD工艺的大容量处理装置
使用高温的Heater可燃性及水溶性GAS处理
与Burn或Plasma Type相比较低的驾驶费用
可处理GAS
PFC GAS : NF3
可燃性 GAS : PH3, ETC
水溶性 GAS : Cl2, HF, HCl, NH3, ETC
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MAGMA3000

LED,LCD应对大容量Heat-Wet Scrubber

GAS处理方式
HEAT WET
处理容量
1500LPM
Dimension(Cabinet)
1280(W)X1300(D)X1850(H)
产品特点
适合显示器CDVD工艺的大容量处理装置
使用高温的Heater可燃性及水溶性GAS处理
与Burn或Plasma Type相比较低的驾驶费用
可处理GAS
PFC GAS : NF3
可燃性 GAS : SiH4, DCS, TEOS, H2, PH3, ETC
水溶性 GAS : Cl2, HF, HCl, NH3, ETC
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